fbpx

Laboratorium technologiczne MBE z kontrolą jakości wytwarzanych struktur: SIMS

KOMPLEKS NAUKO-DYDAKTYCZNY CENTRUM MIKROELEKTRONIKI I NANOTECHNOLOGII UR

O laboratorium

 Laboratorium zawiera instalację MBE Double RIBER COMPACT 21 wraz aparaturą do kontroli jakości wytworzonych struktur.

MBE Double RIBER COMPACT 21 pozwala na pracę z wykorzystaniem pierwiastków przynależnych do III i V grupy układu okresowego (pierwsza komora wzrostu MBE) oraz grupy II-VI (druga komora wzrostu MBE).

Obecnie wykorzystujemy takie materiały jak:

W komorze III -V : In, Al, Ga, As, Sb, Si, Be.
W komorze II-VI natomiast: Te, In, CdI2, Hg, CdTe, ZnTe.

 

Aparatura do kontroli jakości wytworzonych struktur to:
Spektrometr Masowy Wtórnych Jonów – firmy ION TOF
TOF-SIMS ze źródłami Bi, O2, Cs,  który pozwala na kontrolę składu
z dokładnością do 1018cm-3, oraz HRXRD Malvern Panalytical Empyrean 3-ciej generacji. 

 

Tak wyposażone laboratorium pozwala na produkcję struktur kwantowych w obu komorach wzrostu z wykorzystaniem wszystkich dostępnych materiałów. Transfer wysoko-próżniowy pomiędzy komorami daje dodatkową możliwość  tworzenia struktur hybrydowych III-V i II-V bez konieczności kontaktu z otoczeniem zewnętrznym.

Pracownicy:

  • dr Michał Marchewka
  • dr inż Iwona Rogalska
  • mgr inż Małgorzata Trzyna
  • mgr inż. Jakub Grendysa
  • mgr inż Karolina Jedziniak